हाफ्नियम
72
Hf
समूह
4
आवर्त
6
ब्लॉक
d
प्रोटॉन
इलेक्ट्रॉन्स
न्यूट्रॉन
72
72
106
सामान्य गुण
परमाणु संख्या
72
परमाणु भार
178.49
द्रव्यमान संख्या
178
श्रेणी
संक्रमण धातु
रंग
सलेटी
रेडियोधर्मी
नहीं
Hafinia से, कोपेनहेगन का लैटिन नाम
क्रिस्टल की संरचना
सरल हेक्सागोनल
इतिहास
1911 में, जॉर्जेस अर्बेन ने दावा किया कि उन्होंने दुर्लभ पृथ्वी अवशेषों में तत्व पाया जो बाद में पहले से खोजे गए लैंथेनाइड का मिश्रण निकला।
डिर्क कोस्टर और जॉर्ज डे हेवेसी ने 1922 में नॉर्वेजियन जिरकॉन में एक्स-रे वर्णक्रमीय विश्लेषण द्वारा इसे पाया।
एंटन एडुआर्ड वैन आर्केल और जान हेंड्रिक डे बोअर 1924 में गर्म टंगस्टन फिलामेंट पर हैफनियम टेट्रा-आयोडाइड वाष्प प्रवाहित करके धात्विक हैफनियम तैयार करने वाले पहले थे।
डिर्क कोस्टर और जॉर्ज डे हेवेसी ने 1922 में नॉर्वेजियन जिरकॉन में एक्स-रे वर्णक्रमीय विश्लेषण द्वारा इसे पाया।
एंटन एडुआर्ड वैन आर्केल और जान हेंड्रिक डे बोअर 1924 में गर्म टंगस्टन फिलामेंट पर हैफनियम टेट्रा-आयोडाइड वाष्प प्रवाहित करके धात्विक हैफनियम तैयार करने वाले पहले थे।
इलेक्ट्रॉन प्रति शेल
2, 8, 18, 32, 10, 2
इलेक्ट्रॉन कॉन्फिगरेशन
[Xe] 4f14 5d2 6s2
पाउडर के रूप में, हैफनियम पाइरोफोरिक है और हवा में स्वतः प्रज्वलित हो सकता है
भौतिक गुण
अवस्था
ठोस
घनत्व
13.31 g/cm3
गलनांक
2506.15 K | 2233 °C | 4051.4 °F
क्वथनांक
4876.15 K | 4603 °C | 8317.4 °F
विलय ऊष्मा
25.5 कि.जूल/मोल
वाष्पीकरण ऊष्मा
630 कि.जूल/मोल
विशिष्ट ऊष्मा क्षमता
0.144 जूल/ग्राम•केल्विन
पृथ्वी की पपड़ी में प्रचुरता
0.00033%
ब्रह्मांड में प्रचुरता
7×10-8%
सी ए एस संख्या
7440-58-6
PubChem सी.आई.डी. संख्या
23986
परमाण्विक गुण
परमाणु का त्रिज्या
159 pm
संयोजी त्रिज्या
175 pm
इलेक्ट्रोनेगेटिविटी
1.3 (पाइलिंग पैमाना)
आयनीकरण ऊर्जाएं
6.8251 eV
परमाणु आयतन
13.6 से.मी.३/मोल
तापीय चालकता
0.23 W/cm·K
ऑक्सीकरण स्थितियां
2, 3, 4
इलेक्ट्रॉन बंधुता
17.18 kJ/mol
आयनन ऊर्जाएँ
658.5, 1440, 2250, 3216 kJ/mol
उपयोग
हैफनियम ऑक्साइड-आधारित यौगिकों को सिलिकॉन-आधारित चिप्स में छोटे, अधिक ऊर्जा कुशल और प्रदर्शन-पैक प्रोसेसर बनाने के लिए पेश किया जा रहा है।
उत्पादित अधिकांश हैफनियम का उपयोग परमाणु रिएक्टरों के लिए नियंत्रण छड़ों के उत्पादन में किया जाता है।
हैफनियम का उपयोग फोटोग्राफिक फ्लैश बल्बों, प्रकाश बल्ब फिलामेंट और इलेक्ट्रॉनिक उपकरण में कैथोड और कैपेसिटर के रूप में भी किया जाता है।
उत्पादित अधिकांश हैफनियम का उपयोग परमाणु रिएक्टरों के लिए नियंत्रण छड़ों के उत्पादन में किया जाता है।
हैफनियम का उपयोग फोटोग्राफिक फ्लैश बल्बों, प्रकाश बल्ब फिलामेंट और इलेक्ट्रॉनिक उपकरण में कैथोड और कैपेसिटर के रूप में भी किया जाता है।
हैफनियम को गैर-विषाक्त माना जाता है
समस्थानिक
स्थिर आइसोटोप
176Hf, 177Hf, 178Hf, 179Hf, 180Hfअस्थिर समस्थानिक
153Hf, 154Hf, 155Hf, 156Hf, 157Hf, 158Hf, 159Hf, 160Hf, 161Hf, 162Hf, 163Hf, 164Hf, 165Hf, 166Hf, 167Hf, 168Hf, 169Hf, 170Hf, 171Hf, 172Hf, 173Hf, 174Hf, 175Hf, 181Hf, 182Hf, 183Hf, 184Hf, 185Hf, 186Hf, 187Hf, 188Hfउत्सर्जन स्पेक्ट्रम
380750 nm
सबसे तीव्र दृश्यमान उत्सर्जन रेखाएँ। स्रोत: NIST परमाणु स्पेक्ट्रा डेटाबेस।